据外媒报道,旧金山联邦地方法院在审理美光诉台联电、福建晋华等窃取美光技术一案中,应美方检察官要求,对福建晋华前总经理陈正坤及两名从美光跳槽联电的工程师何建廷和王永铭发出逮捕令。
这起案件的直接原因是联电和美光之间的知识产权纠纷。数年前,联电从华亚科挖人,而华亚科是美光在中国台湾地区的合资公司。美光宣称,跳槽的员工通过闪存盘盗取了公司的技术资料,然后交给了新东家联华电子公司的高管。随即美光在当年2月和9月分别在中国台湾省和北美对联电提起诉讼。
今年6月,台湾省法院裁定联电因涉及窃取美光商业机密,联电被判罚金1亿新台币,三名与联电有关的员工被判处4至6年徒刑,并另处罚金。针对台湾法院的判罚,联电表示并未违反营业秘密法,将依法对有罪判决及高额罚金提起上诉。
而福建晋华因为与联电的合作也深受影响。21IC家注意到,早在 2016 年,联电与福建晋华集成签署技术合作协定,联电受到福建晋华委托开发 DRAM 技术,由福建晋华提供 DRAM 所需的机台设备,并依开发进度由晋华支付联电技术报酬金作为开发费用,而开发成果将由双方共同拥有。到了 2018 年底,美国商务部以危及美国国安为由,将福建晋华列入出口管制实体清单,之后联电也宣布暂停为晋华开发 DRAM 相关技术。
来源:王丽英整理
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