什么是芯片解密?芯片的制作流程是什么样的?

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芯片是半导体的一种，可以说我们的智能设备都是建立在芯片之上的，由此可见芯片的重要性。为了增进大家对芯片的了解，本文将介绍芯片解密和芯片制作的过程。芯片感兴趣的话，不妨和我一起继续阅读。
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* S0 d% ^/ ~3 E" [8 c% _( F; j" g一、芯片解密。
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芯片解密是从已加密的芯片之上复制代码。嵌入程序代码的芯片有很多种，单片机只是其中的一种。
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微控制器&#40。MCU&＃41。通常有一个外部的EEPROM/FLASH供用户存储程序和工作数据。为了防止未经授权访问或复制的单片机计算机程序，大多数单片机都有加密锁定位或加密字节来保护片之上程序。如果在编程过程之中启用了加密锁定位&#40。Lock&#41。不能用一般程序员间接读取单片机之中的程序，这叫单片机加密或芯片加密。单片机攻击者用专用设备或自制设备，利用单片机设计之上的漏洞或软件之上的缺陷，通过各种技术手段，可以从芯片之中提取关键信息，获取单片机程序这就是所谓的芯片解密。


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目前，芯片破解的方法主要有：利用软件进行攻击、利用电子检测攻击、采用故障产生技术、利用探针技术进行解密。
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二、芯片的制造工艺。
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. O+ S' i$ k( }5 m" P5 U& w芯片生产的完备过程包括芯片设计、芯片生产、封装和测试，其中芯片生产过程尤为简单。首先是芯片设计，根据设计要求，生成的“图案”。
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1、芯片晶圆的原材料。
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芯片的成分是硅，硅是从石影砂之中提炼出来的，芯片是要提纯的硅元素&#40。99.999％&＃41。之下一步是把纯硅变成硅棒石英半导体材料，用于制造集成电路。然后将这些芯片切成制造芯片所需的芯片。晶圆越厚，生产成本越高，但工艺要求越低。。



$ }! ^2 o/ F& z7 l+ x+ J: j2、晶圆片涂层。

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6 p9 ~) H2 M3 w$ F5 v晶圆涂层可以抗氧化和耐温，创芯为电子材料是一种光致抗蚀剂。
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& E& U3 l. \5 x9 L: b, p3. 晶圆光刻开发和蚀刻。
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这个过程使用的化学物质对紫外线很复杂，紫外线照射之后会软化。通过控制着色物体的位置，可以得到芯片的形状。。硅片涂有一层光致抗蚀剂，当暴露在紫外光下时会溶解。然后可以使用遮光板的第一部分，使间接紫外线部分溶解，溶解的部分可以被溶剂洗去。这样剩下的形状和底纹是那样的，这正是我们想要的。这样我们就得到了需要的二氧化硅层。
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* E) J+ h- T0 e* Z  [! h4. 添加杂质。
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. B- r. Y2 z7 N3 |# m5 [, c在芯片之中注入离子，以产生相应的P和N半导体。
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. c* P6 G& _# \4 U: H确切工艺是从硅片的暴露区域开始，创芯为将其放入化学离子混合物之中。这个过程将改变掺杂区导电的方式，使每个晶体管都能打开、关闭或携带数据。一个直观的芯片只能使用一层，而一个简单的芯片通常有很多层，而且这个过程不断重复，有所不同的层可以通过打开窗口进行连接。这类似于多层PCB板的生产原理。更简单的芯片可能需要多个二氧化硅层，这是通过重复光刻和上述过程用以实现的，以形成一个三维结构。
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: {. H6 U+ l3 z  Y5、晶圆测试。

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经过上述工艺之后，在晶圆之上形成晶格。每种晶粒电特性的针刺试验。通常来说，每个芯片的颗粒数量是极大的，组织一个针头测试模式是一个非常复杂的过程，创芯为电子这就需要在生产过程之中尽可能批量生产芯片规格相近的型号。数越小，相对成本越高，这也是主流芯片器件成本较高的原因。
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  t5 r) Z$ |7 k  V, B3 k6. 包装。


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$ I: f5 d/ }1 ]3 k芯片是特定的，引脚是绑定的，根据要求制作有所不同的封装，这就是为什么同一个芯片内核可以有有所不同封装的原因。例如DIP、QFP、PLCC和QFN等。这里主要是由用户的应用习惯、应用环境、市场形态等内部因素决定的。



7、测试、包装。
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经过上述工艺之后，芯片生产就完成了，这一步就是对芯片进行测试，排除有缺陷的产品，并进行封装。
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常亮

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