|
引言$ p- n: b+ @1 E+ y& U1 n
半导体行业正在快速发展,主要由多个应用领域对更高性能、更低功耗和小型化的需求驱动。先进封装技术在满足这些需求方面发挥着关键作用,通过实现多样化组件的异构集成。本文以参考文献为基础概述了先进半导体封装的主要趋势和技术[1],非最新的信息,但可以见到技术的连续演进,当年的预测依然正确。
+ ], h! C6 r# x1 i
$ E: b9 v" h4 h7 j* V: G
% ~* e$ V: n) f, C( z4 G7 x3 N驱动因素和应用9 M0 P/ d8 B: H. m) f
推动半导体行业增长的几个主要应用包括:+ m4 u: W; l. k% F7 f& n
移动设备高性能计算自动驾驶汽车物联网(IoT)大数据和云计算边缘计算
9 b' T4 A# t) E3 `" k$ H+ S6 U; s8 D. H
这些应用由人工智能和5G通信等系统技术驱动因素推动。为支持这些应用,先进封装技术必须提供:6 z0 a5 \6 @6 ?; k6 [: D2 d
更高密度的集成改善电气和热性能降低成本加快上市时间. D- Q, V, G: R3 j& \! \' d4 `
1 q/ `+ m! z- `5 q$ \* q4 Y# ?6 @* s0 u+ u j
2tw4ki5jya364024524015.png
" {) P: r2 O" C) k& ` |, V) w q图1:各种先进封装技术的性能和密度比较" H: z c8 M% Y+ ~) W0 L( a
$ ?- q" m0 X/ K: e主要先进封装技术% R' C ?7 d/ n. o. E: C
1. 扇出型晶圆级封装(FOWLP)) C4 q, L3 G8 A* L
FOWLP通过将芯片嵌入模塑料中并形成重布线层(RDL)来扩展传统的晶圆级封装,从而扇出连接。这允许在更小的形状因子中实现更高的I/O密度。( N7 J! g/ B3 R N
: H: N8 @4 f) {; \* q1 I
1rk5ywhsm0t64024524115.png
8 H4 j* L) ]( @
图2:采用芯片优先、面朝下方法的扇出型晶圆级封装横截面" h2 G" E, Z! x! Y
' N$ Z. b, i) r) ~4 Y
2. 使用中介层的2.5D集成
7 M% C) F9 J. }0 ^$ x5 q* @2.5D集成使用带有硅通孔(TSV)的硅中介层来连接多个并排的芯片。这实现了高带宽的芯片间连接。( D# s, Z6 L! x. r
. ? V" i1 b3 S, d
w4ega5qd1ag64024524215.png
- c6 J( z& [8 n0 C- O; I2 j
图3:台积电的局部硅互连(LSI)技术,用于2.5D集成, p: T! U7 v" j/ U
& D7 U2 a: G5 x
3. 使用TSV的3D集成% g- K, ]: t6 m' q6 w G! H0 J
3D集成使用TSV垂直堆叠多个芯片进行芯片间连接。这提供了最高的集成密度,但面临热管理和良率方面的挑战。
% o, Y( Z+ P/ Q3 p% a
5 n, z0 c$ O# Z3 H+ x- h' y4. Chiplet架构
; c4 ^) x0 M* a0 c: ~, t# O$ G6 VChiplet涉及将大型系统级芯片(SoC)设计分割成更小的芯片,然后使用先进封装进行集成。这改善了良率并允许混合使用不同的制程节点。
5 b) j% G# P$ G( w
" V4 s7 J+ {4 I0 S7 u
zgniu3pyznj64024524315.png
3 `1 m# Y' E6 u' P2 L
图4:AMD和英特尔基于Chiplet的处理器示例
6 K- X2 e% Y6 m" e. g8 |
1 p3 Z. Y7 i" D. W) [6 \5. 混合键合
% E* P) a/ Z H2 R; D混合键合实现了芯片之间在非常精细间距下直接铜对铜键合,无需使用微凸点。这为芯片到芯片的集成提供了最高的互连密度。
5 `8 N+ M4 a2 i& L+ T! I* \! Z
glzbe0n2ets64024524415.png
" K9 }7 o, w1 j
图5:微凸点键合和混合键合方法的比较4 _) d/ a) W0 l1 r7 o% c' Q0 _
- m# {' b3 S" f$ m5 w
关键封装工艺
$ p, M4 Q+ {; ]" p几种关键工艺技术促进了先进封装:
6 s: r3 D# k" j4 k0 Z1 b j3 f! y1. 晶圆凸点制作. b+ h/ ~) t, z! I
晶圆凸点制作在芯片切割之前在晶圆上形成互连结构。常见的凸点类型包括:: `4 @' i: o; S. \5 ^
焊料凸点(C4)带焊料帽的铜柱(C2)' R2 U- k# ]6 l( P
/ p: E- P) ?5 c+ @# K
4ehvddxpvv264024524515.png
$ }2 m- c5 t2 V, u9 a图6:C4和C2晶圆凸点制作的工艺流程/ \* \# C; ~( k# O- u( ]; a
* o6 q6 r4 a8 ^2 ]0 S: x& e) i
2. 芯片贴装和互连$ X7 g& |. R. P% ^8 \: @( H& a1 q
将芯片连接到基板或其他芯片的方法包括:! c( Q/ G6 {/ H8 Q$ b( B3 c
焊料凸点的回流热压键合(TCB)混合键合2 H/ j% F2 Y* q2 o" h3 T; U
$ X0 K" m8 T1 A( i
3. 底填
( k1 i- x- M* T; s% e' c8 l3 z底填材料被注入以填充芯片和基板之间的间隙,保护互连。$ m+ B" }3 e3 }; j# g
/ Z1 K! _! ^2 d, ]* A4 X
4. 重布线层(RDL)形成6 |: W3 O; m7 v
RDL在芯片表面重新布线连接。主要RDL工艺包括:1 o! F3 O/ G8 A; i' a ^
光刻电镀蚀刻
1 L% g+ q$ g/ \) W, o2 k) D3 S0 \$ H' r1 k( R# a1 \
5. 模塑
( C9 e8 |# O( N7 j4 V2 \7 N/ `模塑料封装芯片和互连以提供保护。方法包括:8 f/ k# h% S3 o) @! Z& R
传递模塑压缩模塑
7 r; q% A2 w1 l' g; M+ e) O F' f: u3 T( x
先进封装趋势9 s# s% n& c, S7 C
1. 更精细的互连间距
w( B& ^' P( \6 U- P* a: b, A! [互连间距持续缩小以实现更高密度的集成:
- s) m# P! u4 s1 a( ]翻转芯片凸点间距:最小50μm U1 L7 a# o, {* r* K
微凸点间距:最小20μm
) L; v- k. Q( w# ~0 a' ^6 i混合键合间距:
4 f. S3 P3 U. W1 ^& `& @" j5 o) g( W+ ~9 s% Q+ `/ L& t- f/ q
2. 面板级封装
; h2 _. z; S- U7 w: Y% E2 Z从晶圆级到面板级处理的转变实现了更大的制造规模和更低的成本。
3 A" H( |1 X# b7 K+ X# H# b* k) J4 r4 s& k- F: `
3. 先进基板+ n4 D ]( s! J! |& t
具有精细线/空间和嵌入式元件的有机基板正在实现更高密度的封装。
/ X9 m. W0 @: H3 T% u+ n0 d& }. g9 H7 Y Q' M9 z; A
4. Chiplet集成
b% ]) S" A. e- c) i5 X& P! C作为单片SoC的替代方案,Chiplet的异构集成正在增长。( Q) k" o& c/ R$ Y4 E5 s
) |! f& k2 ?; B u
5. 光电共封装 (Co-Packaged Optics)
* r/ p* }! K5 D% v在封装中集成光学元件正在实现更高带宽的互连。" w; u a5 R, `8 x7 h$ _
* v8 u0 e! r/ Z" c% a6. 先进热管理+ J" r ?7 n1 U8 v$ w9 K" I1 U
正在开发微流体等新型冷却解决方案来解决热挑战。
2 q, T% }4 Q& o8 E; o; H0 i3 |% y- C9 f5 r" M* w s; C
% ]+ F% u4 a% V" ^3 Y+ q7 J- `
可靠性考虑
' m( P4 T$ e; T5 l随着封装变得更加复杂,确保可靠性变得重要。主要可靠性问题包括:8 t, H2 z/ n$ T/ l7 F! Z3 ^
互连的热循环疲劳跌落冲击抵抗湿敏性电迁移应力引起的翘曲" u* o: W3 ?6 ]3 V; g3 o/ \
& H2 C% q7 w2 ]2 f需要先进的建模和测试方法来预测和改善封装可靠性。
V) T/ ~& r& j: T% c$ k& m
H7 i* w( w) @% k/ x8 z
1ey3uemexbo64024524615.png
" V. Z4 h. M; v& ^/ c图7:与单片设计相比,Chiplet方法对芯片良率的影响0 w. t* E7 W' z1 e5 T
8 e; I& y% @ U3 a% j, R材料开发" s ~* [* n6 u6 o
新材料对实现先进封装很重要,包括:4 Q3 t5 {7 G( {! V% t, o4 T
用于高频应用的低损耗介电材料低热膨胀系数模塑料精细间距底填材料低温焊料用于RDL的光敏介电材料6 U' I U6 ~+ e R' ]8 b
0 F* y6 q$ ~7 D5 w9 R) s! L
9 o; F1 v4 ^9 K& u& n7 u3 ?
drivgoq5jwl64024524715.png
3 I* |3 R9 N9 V
图8:封装材料介电损耗(Df)的路线图
' s5 P1 [/ l1 M; ?
9 I. o5 _! t3 D5 D3 ~1 h
tvathmfe4k064024524815.png
- {! k4 C* H0 N1 ?- W3 W2 W: y
图9:封装材料介电常数(Dk)的路线图2 f3 B8 Z; r6 X- B( n* ^+ b- |, Q0 q3 ^
% R# M/ x, V/ z- J未来展望- |6 }* ]! A$ r6 O4 O) g' F! X# R
先进封装将继续在推动半导体创新方面发挥关键作用。需要关注的关键领域包括:1 I* _$ ]+ [: I' {0 g6 K0 M
晶圆级、面板级和PCB技术的融合Chiplet和芯片分解的增加采用超越焊料和铜的新型互连技术芯片和封装的协同设计石墨烯等新材料的集成嵌入式冷却解决方案用于封装设计和优化的人工智能
; ~& Q f% }5 w4 N
r$ g; q( Z$ t3 W随着封装变得更加复杂并对整体系统性能更加重要,芯片设计师、封装设计师和材料供应商之间的更密切合作将变得不可或缺。( W: ?! g' S3 f J. j
" E3 ? Y) b8 i( V; K6 g7 V( x- Y2 P! |. I" t
结论
1 E% [! V' c8 i+ [. I! H1 L4 K& S先进封装正在快速发展以满足下一代电子系统的需求。扇出型封装、2.5D和3D集成以及Chiplet等技术正在实现前所未有的异构集成水平。在材料、工艺和架构方面持续创新对于克服挑战和实现先进封装在未来应用中的全部潜力将非常重要。
7 G, |, o( z% y9 u8 q# h4 C1 C! q2 B
* U# g& `( f. c }6 b" Q
参考文献3 p. B& R3 I7 e, A+ B* o4 H
J. H. Lau, "Semiconductor Advanced Packaging," Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021.
8 a. t3 t A* j: \( u
* S' a9 B5 m7 `" `# L4 q
, g+ q; ~/ n+ I. X8 C
( i- F- c0 K) z6 Y4 v# p- END -1 |% q! [. B' x% Z) N( X1 ]
5 g1 x& T( l( a$ X软件申请我们欢迎化合物/硅基光电子芯片的研究人员和工程师申请体验免费版PIC Studio软件。无论是研究还是商业应用,PIC Studio都可提升您的工作效能。
- ?3 x) _' P6 ]( b% I5 f点击左下角"阅读原文"马上申请
6 Q& p9 R- b* f& X; j
F- w$ A2 l" y. t- B欢迎转载
" P0 L+ g e3 A- J1 v* u3 x% L+ J }/ C$ K/ R1 b2 i
转载请注明出处,请勿修改内容和删除作者信息!
" F' K' Y/ [. a/ r0 e5 }' X/ W6 N( C
) a) V5 v& s7 j8 k6 w4 b( h
: M9 |% r) P/ q! L. Z
f3ptq3ikdh464024524915.gif
$ S9 v) F4 n- Z( g, U( s% B9 J. Z: _3 O2 p6 R2 T3 l4 d
关注我们
1 G/ @) B3 x" u s/ ?% j6 \, K; {! n" O. r. V5 N; J
; q. o) R" Q7 m. U# [+ M& H
nqq51ufjain64024525015.png
( B6 J* V+ H8 b2 f s) w
| ( B: e! D* s" G4 I, \$ f/ A! w7 `! b' N
ejwsveytik264024525115.png
0 y+ B& n. `" K' L5 Y
|
9 t( p, j# ]+ {
sd1dglcqkma64024525215.png
8 J6 N$ e* k% l3 U$ l5 S) z( E; H | ' X/ D. v: Q) D" v0 J+ T
0 }% V- q5 h" `# w6 F( W" A0 z/ d
% G( k4 M% [' D9 s0 \) o
1 ^* f; C- J5 G9 N4 P; l
( b( `+ X& Q. v2 p
# ]2 n+ W4 B. Q
, S7 {/ c5 o. F5 a, m6 P4 I
关于我们:
/ J j9 h; @& H! [2 ~深圳逍遥科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家专注于半导体芯片设计自动化(EDA)的高科技软件公司。我们自主开发特色工艺芯片设计和仿真软件,提供成熟的设计解决方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分别针对光电芯片、微机电系统、超透镜的设计与仿真。我们提供特色工艺的半导体芯片集成电路版图、IP和PDK工程服务,广泛服务于光通讯、光计算、光量子通信和微纳光子器件领域的头部客户。逍遥科技与国内外晶圆代工厂及硅光/MEMS中试线合作,推动特色工艺半导体产业链发展,致力于为客户提供前沿技术与服务。
# b; }# Z" g2 M& _1 B7 P: Z9 B% o6 @4 |7 v: b" w! g" w4 P/ T
http://www.latitudeda.com/
( G! p. o& M# l& S1 j; e4 V n(点击上方名片关注我们,发现更多精彩内容) |
|