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引言5 M9 C8 C1 T. \5 q6 i- G7 S( }
光量子计算(PQC)已成为实现量子信息处理的一种有前途的方法。传统上,PQC系统主要依赖于低温环境,主要是因为需要使用超导纳米线单光子探测器(SNSPDs)。然而,锗硅(GeSi)单光子雪崩二极管(Spads)的最新进展为室温PQC提供了新的可能。本文探讨了使用光电子集成芯片和GeSi SPADs进行室温PQC的概念,强调在革新量子计算研究和开发方面的潜力[1]。: c& H N4 B& w2 T( ]$ i6 J
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室温PQC范式
8 R3 u1 [7 M2 i p8 t( D提出的室温PQC范式利用了GeSi SPADs和光电子集成芯片的最新发展。与低温系统相比,这种方法提供了多项优势,包括提高测试吞吐量、缩短设计迭代周期和简化系统集成。
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* R/ c# Q7 p' f- G图1:基于硅基光电子的室温PQC范式示意图,利用单光子的路径自由度。
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s8 _" D" z* C6 y: {$ i室温PQC系统的主要组成部分包括:量子源:通过硅-绝缘体-硅(SOI)环形谐振器中的自发四波混频(SFWM)产生单光子。量子线路:使用级联的马赫-曾德尔干涉仪(MZIs)实现的可编程干涉仪网格(FPIM)操纵单光子的路径。量子探测器:在室温下工作的波导GeSi SPADs作为单光子探测器(SPDs)或光子数分辨探测器(NPDs)。
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波导GeSi SPAD设计
, N' j$ q& D/ G$ t( |: e室温PQC系统的核心是波导GeSi SPAD。该器件基于最近在室温下演示的垂直入射GeSi SPAD。提出的设计旨在实现高量子效率(QE)和低暗计数率(DCR),同时保持与标准硅基光电子制造工艺的兼容性。
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图2:(a)提出的波导GeSi SPAD的俯视图和(b)横截面图。( I1 u: X3 P' s1 y
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波导GeSi SPAD设计包含几个关键特征:台阶耦合器:连接SOI波导和Si层,实现高效光耦合。多模干涉(MMI):允许光场在波导中垂直振荡,增强Ge层吸收。铝背反射镜:增加有效吸收长度,最小化器件占用面积。3 v3 {' T" p1 r7 ]
[/ol]
8 j% i& ~, x% `5 C量子效率优化* O& C1 V1 R2 ~ E2 ]0 J$ ^$ B
为最大化波导GeSi SPAD的性能,进行了大量模拟以优化量子效率。7 T7 w# q6 t# u* s! x) f) W, c
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图3:(a)无Al背反射镜的提议波导GeSi SPAD的QE,(b)有Al背反射镜时的QE,以及(c)在1550 nm和1310 nm波长中心的光谱QE。" i" t4 [- m* A4 m6 y$ ?6 B
% `0 `+ E/ H6 x: U
优化过程揭示:
% I, N' m0 g x+ c0 h: n% p在1550 nm和1310 nm波长处均可实现大于95%的QE。添加Al背反射镜显著提高了QE并减少了器件长度。仔细选择耦合器长度、间隙长度和Ge长度对于获得最佳性能非常重要。
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暗计数率缩放
+ j, \( V5 n; e/ P$ N$ f开发室温SPADs的一个关键挑战是管理暗计数率。通过分析参考光电二极管的数据,可以估算提议的波导GeSi SPAD的DCR。
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图4:GeSi PD在-1 V反向偏置下的暗电流,按其有源区周长归一化,绘制为有源区直径的函数。- |. y( I6 V& w
4 [9 j& B* v o+ r
分析结果显示:- c' B6 A9 t9 E' y0 ]5 @, l
表面暗电流密度:4.12 μA/cm2体暗电流密度:0.7 nA/cm估计的DCR:在1 V过偏压时约为0.8 MHz,在2 V过偏压时约为1.6 MHz
% ?( F* |+ e2 w% s8 Q f. M
& _8 L% o3 n& {& Q8 G* g这些值代表了文献中报道的最低水平,使GeSi SPADs能够在室温下运行。% A. y) T% c. i# o1 S# ^
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PQC性能基准
" t: s% ^& ?: E为评估GeSi SPADs在PQC应用中的适用性,提出了新的性能指标,更好地反映了量子计算系统的要求。这些指标侧重于在存在暗计数的情况下忠实检测光子态的能力。! {* @/ h- a, T/ t# E$ |9 |
& v4 h' T3 J; ^/ ]2 F/ D" M对于基于光子的PQC:* _0 ]; Z2 [* ~8 y. N2 y
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8 N& C3 n) V" I/ F. W* k图5:(a)成功检测N光子态的概率,(b)检测N光子态的保真度,(c)300 K GeSi SPADs和4 K NbN SNSPDs之间的成功概率差异,以及(d)保真度差异。2 q. G- d" e9 y
2 z& ]3 N/ O+ C' X: L对于基于量子位的PQC:
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图6:(a)使用300 K GeSi SPADs成功检测N量子位态的概率和保真度,(b)300 K GeSi SPADs和4 K NbN SNSPDs之间的成功概率和保真度差异。3 \- `! O) T6 ]( H! d4 [& E" T
- O' w9 o- E# C X+ B: |( W性能分析的主要发现:由于假设的单光子探测效率(SPDE)较高,300 K GeSi SPADs的成功概率比4 K NbN SNSPDs高几个百分点。300 K GeSi SPADs的保真度仅比4 K NbN SNSPDs低0.0084%。高单光子探测效率(SPDE)在PQC性能中起着关键作用,而超低DCR并不像之前认为的那样重要。. f9 F% r6 d1 {8 H4 J* [
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3 y1 Z1 }6 }4 Z; a- l) k0 a) b$ c这些结果表明,当考虑适当的性能指标时,室温GeSi SPADs在PQC应用中的表现可与低温NbN SNSPDs相媲美。
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) L$ u o" S y: g* g- v光子数分辨探测器! D: q1 |! T2 g7 }$ L
为实现光子数分辨能力,提出了两种基于空间复用波导SPD阵列的波导NPD配置: _0 S- v" S$ G/ f: c" _' Y1 ?, w
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/ o0 u: C; F% g6 h0 w# I图7:基于空间复用波导SPD阵列的波导NPD可能配置。(a)星型耦合器方法,(b)级联波导耦合器方法。
6 s0 m" c, U1 u2 Z: e' v星型耦合器方法:输入SOI波导与星型耦合器对接,后者将光导向波导SPD阵列。级联波导耦合器方法:输入SOI波导与侧波导进行波导耦合,然后耦合到波导SPD阵列。+ k8 ?! o5 S& @7 C; \
[/ol]
4 ^- t" u' k8 U# i. v这两种配置都能够创建适用于基于光子的PQC方案的NPDs。
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未来方向和挑战
* K. c& z% ~2 C虽然提出的室温PQC范式显示出巨大潜力,但仍存在几个挑战和未来研究机会:
' X- t7 @& e0 s2 @+ N* I; @中红外(MIR)操作:探索基于MIR的量子光学,以减轻短波红外(SWIR)波长下SOI波导中的双光子吸收效应。替代材料:研究基于GeSn on Si、GeSn on Ge on Si和应变超晶格on Ge on Si的SPADs,以扩展波长覆盖范围。制造和集成:开发和优化波导GeSi SPADs的制造工艺,并将其与现有硅基光电子平台集成。扩展和系统级演示:实现大规模室温PQC系统,并展示具有实际优势的量子算法。
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# V" o9 u4 V b. r5 g结论
: r6 g( }& t% I: t基于光电子集成芯片和波导GeSi SPADs的提议室温PQC范式为无低温量子计算提供了有前景的道路。通过利用GeSi SPAD技术的最新进展并仔细优化器件设计,可以在室温下实现与低温系统相当的性能。这种方法有潜力显著加速实用量子计算系统的开发和部署,为量子信息处理及其在各个领域的应用提供新的可能性。! \+ F/ L) W' S5 ]
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[1] N. Na, C.-Y. Hsu, E. Chen, and R. Soref, "Room-temperature photonic quantum computing in integrated silicon photonics with germanium–silicon single-photon avalanche diodes," APL Quantum, vol. 1, no. 036123, Sep. 2024, doi: 10.1063/5.0219035.
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