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光子集成相控阵的低旁瓣

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发表于 2024-12-4 01:39:40 | 显示全部楼层 |阅读模式
光子集成相控阵是各种应用中的重要组件,包括光通信、传感和成像系统。影响这些阵列性能的关键因素之一是旁瓣电平。高旁瓣会导致发射光相控阵中的干扰、功率浪费和系统效率降低,同时也会对接收光相控阵造成干扰。本文将探讨设计低旁瓣光相控阵的方法,重点关注均匀和非均匀阵列配置[1]。1 A, ~. w! R, T
! i9 b2 u. P( m/ u% Z; p# F4 \% Q  Y: q# |( Y, _  B7 K/ [1 ]+ v
1 Z2 b* A5 r5 Z! G4 x2 }: P* o" x; N0 e  _8 c/ L6 t
理解光相控阵; R' j( `& Q- \4 Z+ r
在深入探讨低旁瓣设计技术之前,了解光相控阵的基础知识很有必要。具有N个天线的一维光相控阵的远场辐射模式由以下公式给出:2 p. ]) c) F' Z! c  C: D: D& U: k" m0 m3 A

6 Q0 a) V% {  d; gE(θ) = ∑[n=1 to N] An e^(j(2π/λ)xn(sin θ - sin θs))
0 M4 h  B* ~0 L1 x8 f
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