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光电子集成芯片的设计规则检查

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发表于 2024-12-19 08:00:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
设计规则检查(DRC)简介. T6 n5 g0 c. d& T# z% ]
设计规则检查是集成线路设计中的关键验证步骤,通过验证物理版图是否符合预定义的设计规则来确保制造可行性。在光电子集成芯片中,由于光波导和器件的特殊要求,设计规则检查变得更加重要。PIC Studio当中的pVerify DRC工具提供全面的设计规则检查功能,使设计人员能够高效地验证版图。$ F, g- w5 _( O( L6 ?

* ~; ?" E6 h8 g% j# h* t, u; Q基本设计规则检查* Z. V7 E, Y6 X$ Y$ b" {% ~
PIC Studio实现了构成版图验证基础的设计规则检查,确保各个几何元素满足制造约束。该平台提供多种基本检查机制。) X4 \+ `" ^% r& z7 D

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& M5 l- g8 J. h# ]/ V+ |
图1:基本设计规则检查的图示,包括最小宽度和精确宽度要求,展示了尺寸超出指定参数时如何识别违规情况。. N+ t9 h7 N' F6 u
# ]( F+ y* \+ ~( v5 t
最小宽度检查确保没有特征比工艺定义的最小尺寸更窄。这对波导尤为重要,因为宽度变化会显著影响光学性能。精确宽度检查验证特定特征是否保持精确尺寸,这对定向耦合器等器件极为重要,因为耦合比依赖于精确的几何参数。
, |6 v$ q1 y3 B. b

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; Y4 l9 q- @3 Y
图2:设计规则检查验证中的间距和面积检查演示,展示了如何验证特征之间的最小间距和最小面积要求。
6 C3 [7 N% O) D, h
# X. b# v- p2 m. {9 ]. R7 R间距检查验证相邻特征之间是否存在足够的分隔,以防止制造问题和不需要的耦合效应。面积检查确保特征足够大,可以可靠制造,这对接触焊盘和其他金属结构特别重要。, G8 h% n8 c, |! d" X
9 _, U+ M5 U, o8 A: q' D
层生成方法5 _4 T" ~! g2 V( v( r% H$ f
PIC Studio提供了支持复杂设计规则检查操作的复杂层生成功能。2 Q: }2 f& i( n+ K4 z

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3 u2 _( X" o  Z; X8 R' j3 O% Z图3:用于设计规则检查验证的各种布尔运算(或、与、异或、A-B、B-A)的图示。
7 L* a9 d7 ]; Y$ e0 H1 T' ]$ h# s2 ?( i* H. |6 D: @  o

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/ V8 e' g( I; @+ L. m& g4 ]" @/ B- D图4:用于修改几何特征的正向和负向尺寸操作演示。) F% a4 i# t# @/ O- I

! d1 d6 I1 ?: {( \- z, t扩展几何检查
  ]( B( H' l# }6 c. s! _除基本检查外,PIC Studio还实现了复杂光子结构所需的高级几何验证功能。* H9 X( t: w5 d7 E

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' B0 c- V8 y8 w% u图5:扩展几何检查的示例,包括不同层之间的包围和分隔要求。' B5 [! T. o& w" A. e9 k/ p

0 D8 R, u" v* E1 }+ E7 k

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, U  `7 i3 l" I7 P; a& g# b( R图6:各种几何关系检查的演示,包括不同层之间的内部、外部、不相交和重叠条件。+ u3 |# z& h! g$ p7 k$ c
9 b+ E7 t, z$ L! @; \+ z, {
锐角和密度检查2 I) \% w3 f6 J3 I+ y
PIC Studio为制造关键特征提供专门的检查,锐角可由用户自行决定是否执行自动修复,或是用户自行手动修复。& ]& a# h$ Y( Y

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( h( D7 d- w- G1 \* W7 S; N; E
图7:锐角检测和修正方法的图示,展示了如何识别和修补关键角度。8 `* s/ m8 A$ i

2 m4 U9 i2 C1 D- s! H$ ~

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+ k( w- ~1 K& Y, @6 _$ y# T/ l
图8:密度检查演示,展示了如何根据指定限制验证局部图形密度。
% U9 q& z9 d' C3 w$ i# ~
6 q1 Q/ Q6 Y' `与设计流程的集成- q; ^* f+ s9 S) b
PIC Studio的设计规则检查功能完全集成到设计流程中,支持各种输入点和验证方法。
* _0 [$ C- y' t/ H4 x

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+ ^2 G# R1 ?- @* U图9:全面的图表,展示了设计规则检查验证如何与不同设计流程集成,包括原理图驱动、版图驱动和GDS驱动方法。. U# d& T0 V4 R

8 B- ^/ @+ ^5 s7 U- c) T1 \/ o6 S$ D; F* opVerify设计规则检查解决方案的优势( `! ]2 z+ D+ v' J8 h5 F

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) F& N' q& o, k9 k& a! E
图10:pVerify作为设计规则检查解决方案的主要优势概述,突出其效率和成本效益。* e8 k$ k0 k5 W* s) ]

+ [# Y% N* R4 z8 s: W" rPIC Studio的pVerify提供多个主要优势:" z, T" N: z) N. ]& e! x1 P
全面的设计规则检查套件确保设计准确性
3 j8 {7 h+ o. ~包括布尔运算和密度检查在内的高级功能
+ d4 i  g0 S, C. Y% Z早期阶段的设计规则检查验证实现快速问题解决
; l. S/ N; }$ S( p! n与基于Windows的设计流程无缝集成( K6 p+ H. ^! m
所有设计人员都能使用,促进持续的设计验证
0 O% C$ |) t4 l, k( `) K8 p与业界标准签核工具(如Calibre)兼容
" ]2 i- O' p$ v4 N8 B# z# @7 ]

, I% y0 E/ {& h% L9 V& x& X+ ^  N& kPIC Studio平台支持主要光电子芯片代工厂和工艺,确保在行业内广泛适用。高效的验证引擎在保持设计规则检查高准确性的同时实现快速周转。通过这种全面的设计规则检查实现,使设计人员能够创建可制造的光电子集成芯片,同时保持高生产力和设计质量。( |, v: M/ J/ D2 i* [. I) M

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转载请注明出处,请勿修改内容和删除作者信息!
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5 M1 F  j- f# H0 l3 F2 ^  b0 i. a关于我们:
, ~5 k  W) w2 K7 a) c深圳逍遥科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家专注于半导体芯片设计自动化(EDA)的高科技软件公司。我们自主开发特色工艺芯片设计和仿真软件,提供成熟的设计解决方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分别针对光电芯片、微机电系统、超透镜的设计与仿真。我们提供特色工艺的半导体芯片集成电路版图、IP和PDK工程服务,广泛服务于光通讯、光计算、光量子通信和微纳光子器件领域的头部客户。逍遥科技与国内外晶圆代工厂及硅光/MEMS中试线合作,推动特色工艺半导体产业链发展,致力于为客户提供前沿技术与服务。
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