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硅基光电子集成芯片的物理验证与光电协同设计工具

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发表于 2024-12-18 08:01:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
引言- D+ L1 \6 q1 B1 {9 B8 I; h
随着光电子集成芯片复杂度不断提升,需要像电子集成芯片设计一样采用严格的验证方法。本文介绍光电子集成芯片的物理验证流程,重点介绍PIC Studio支持电子和光学器件协同设计与验证的综合设计平台。通过分析关键验证步骤、工具和方法,深入探讨光学设计验证中的特定挑战。
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随着光电子集成芯片复杂度不断提升,需要像电子集成芯片设计一样采用严格的验证方法。本文介绍光电子集成芯片的物理验证流程,重点介绍PIC Studio这个支持电子和光学器件协同设计与验证的综合设计平台。通过分析关键验证步骤、工具和方法,深入探讨光学设计验证中的特定挑战。
2 j: b# y2 Z1 x2 u' o/ v+ M7 f. o! h* z! x) W$ j7 \
PIC Studio光电协同设计与物理验证流程
! v+ c: E: d9 U6 xPIC Studio提供了从器件级到系统级的光电子线路设计集成环境。该平台包含多个工具:用于系统级仿真的pSim Plus、用于原理图设计的pLogic、用于版图生成的Advanced SDL和用于物理设计的PhotoCAD4 v+ t  D2 n4 O; m1 G' M' C* \

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( _% X4 L5 q9 f" X' H图1展示了PIC Studio的完整设计流程,包括系统仿真(pSim Plus)、原理图设计(pLogic)、版图生成(Advanced SDL)和物理设计(PhotoCAD)等各个工具的集成。" X6 C  A! L- h4 L6 b6 P+ ?
* Z- E3 d1 [2 l- G& |
物理验证方法9 y3 ?* `, r$ \+ R4 B  e8 @- \& z7 b
由于光学器件的特殊性质,光电子集成芯片的物理验证过程与传统电子集成芯片验证有显著差异。主要包括版图对比原理图(LVS)验证和寄生参数提取(PEX)。5 h* Q# Q6 b4 g2 j0 q

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. Y' M. L/ Y. B* H! V/ @# ?图2对比了光电子集成芯片和电子集成芯片验证方法的差异,包括LVS输出、应用场景、PEX开发方法和输出格式。, j, Q2 T" k" l' [

& |1 Q+ Y& a. O4 d% p$ D器件级验证8 a- g; ]* X* G7 \$ Z. _9 @) j
物理验证始于器件级,需要仔细考虑无源和有源光电子器件的特性。常见器件包括:
1 D3 _0 E& a- D

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; g0 O7 n6 @* E# T4 i% X4 ^/ G图3展示各种无源光电子器件,包括边缘耦合器、光栅耦合器和波导分路器及其截面视图。' H( }1 i0 C' J! M
! }( g' z+ M4 J" p+ R

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( }& C* J% |2 m, @1 J0 |* ?' ?) x
图4:热调制调制器、微环调制器和锗探测器等有源器件及其截面和工作特性。
+ r% d) d7 z' F) a2 {! J2 d5 Z; e3 K
版图提取与验证
' M+ H5 B; z3 x( Y# ~. ^" g. R4 ]PIC Studio的版图提取过程采用两种主要方法:) O+ T9 _; j/ x+ |2 Y" W
1. Advanced SDL:
  u( X, m, v; J
  • 支持原理图驱动设计的直接版图提取5 t' I5 i. j- q& G. T. S' _

    8 j5 C/ w4 H; ]2. GDS2INFO:  X! s0 t. ?; S. w; V
  • 支持从现有GDS文件进行提取,适用于传统设计,不受限PDK。( o0 q  q/ L+ a6 }( E
    0 a7 k  H) f: L3 C8 V+ b  }. X9 w
    / t$ ]! ]) g; p! B4 J. J2 n

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    ' B! u$ a( [+ y. x: S1 L
    图5:从版图数据提取连接信息和生成网表的GDS2INFO工作流程。
    5 D( y% c" t9 S& S( `& w/ j( t2 K
    3 G$ ]; X$ s7 }1 T  b) z联合仿真与验证
    ! ]3 r! [: S9 `) uPIC Studio通过pSim Plus支持电子和光学器件的全面联合仿真。这项功能对于验证混合信号线路和确保光电域之间的正确交互非常重要。9 o- \3 d' C) c) |, J

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    + Q: R- d$ p1 q6 M图6:pSim Plus模拟组合光电线路的能力,包括RLC效应和受控源。
    . d  j6 t/ N$ E: K2 P# A; E$ b4 i- U0 O
    工业支持与PDK集成
    ; F( b+ q0 x# q5 k9 l6 B- ~7 @PIC Studio通过与各种工艺设计工具包(PDK)和Assembly设计工具包(ADK)的集成,保持广泛的行业支持。' ?& X5 X8 |. S1 A/ ]- z! a

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    + c1 a! I) ]+ y) E8 y$ Q" y- e' B& a4 I图7:PIC Studio支持的广泛生态系统,包括主要行业企业。
    ' N( b6 `7 l7 N  }* T1 o) `) Q
    & \0 T) z& i, G0 @; R高级验证功能9 h- X7 z$ S! k. n7 l$ Q: s
    该平台包含多个高级验证功能:6 o! N/ b1 ]) K. h7 m

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    * z+ c1 t& l0 k0 r# t; f5 q图8:pSim Plus支持的三种电极建模方法,包括阻抗匹配、S参数分析和电路仿真。
    % _& j5 n/ H9 {% U
    8 k7 n. v5 v2 U* _* [, R  y产业生态系统集成
    8 k4 w# b+ E6 q$ U5 c* p% |PIC Studio的验证方法集成在更广泛的产业生态系统中:
    . `/ l- |) v! d/ a5 t5 Y( n

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    ' @' {$ P! u. x  r! _图9:围绕PIC Studio的完整产业生态系统,包括PDK提供商、代工厂和第三方工具集成。/ a( S  w9 n# E$ H* {- [( F
    8 S1 s0 P2 Z6 J3 b
    结论8 U" n: N* p- T' j% b! ]- ~
    PIC Studio的物理验证流程为确保光电子集成芯片的可靠性和可制造性提供了全面的解决方案。通过结合传统电子集成芯片验证方法和光电子特定需求,实现了复杂光电系统的高效协同设计与验证。与行业标准和代工工艺的集成使其成为现代光电子集成芯片设计挑战的实用解决方案。现在,随着PIC Studio平台的进化,光电融合的设计验证已经由概念走向实际应用,欢迎各位工程师探讨交流并尝试使用。
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    ! ?$ {) }/ U* h, P9 D: n
    软件申请我们欢迎化合物/硅基光电子芯片的研究人员和工程师申请体验免费版PIC Studio软件。无论是研究还是商业应用,PIC Studio都可提升您的工作效能。
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    欢迎转载
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    0 h& U& N) H7 l0 f: X+ [. \转载请注明出处,请勿修改内容和删除作者信息!5 N7 @; p& Z% X  [2 g  ?

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    $ h" g" }8 a$ m, L  h关于我们:
    * c1 b3 l* }+ l5 t深圳逍遥科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家专注于半导体芯片设计自动化(EDA)的高科技软件公司。我们自主开发特色工艺芯片设计和仿真软件,提供成熟的设计解决方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分别针对光电芯片、微机电系统、超透镜的设计与仿真。我们提供特色工艺的半导体芯片集成电路版图、IP和PDK工程服务,广泛服务于光通讯、光计算、光量子通信和微纳光子器件领域的头部客户。逍遥科技与国内外晶圆代工厂及硅光/MEMS中试线合作,推动特色工艺半导体产业链发展,致力于为客户提供前沿技术与服务。
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    ) A" V# s) R6 lhttp://www.latitudeda.com/
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