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PCB硬板NPTH大孔孔内残铜粘金问题及进行改善

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针对PCB硬板NPTH大孔孔内残铜粘金问题,可通过以下系统性方法进行改善:! d+ p3 Z* g) F* F

9 W6 ^, A) P4 V. @4 J3 X一、钻孔工艺优化5 {# {6 a1 ?" P. K1 ~7 x4 H

; w) z4 O6 G" L" f4 B4 A1. 调整钻孔参数
3 w" E# F; w0 S1 T- h+ J9 D4 N2 m' x# ^  d+ |: }9 y8 Q! ]- f
- 进刀速度与转速:根据孔径大小优化进刀速度(F)和转速(S),降低孔壁粗糙度。例如,4.4mm针径可采用较低进刀速(如15-12 ipm)和300 R(rpm)参数,减少切屑阻力。
& [8 B# @9 `8 M8 p6 y- 钻针全长度控制:选择36.5-37.0mm全长度的钻针,避免因钻针过度磨损导致孔壁修复能力下降。$ G' b6 r- R2 a
2. 优化钻孔设计
. Z0 z5 ?/ x. `* f
$ \% i/ k9 z" k+ m, A- 增加**孔:在4.0mm以上大孔的同心圆处加钻0.7mm针径的**孔,提升扩钻孔面积占比(如从29.53%提升至32.28%),减少切屑堆积。/ V' j9 q4 H7 T! e7 W
- 调整扩钻孔数量:针对不同孔径设计合理的扩钻孔数量(如4.4mm针径加4个1.25mm扩钻孔)。0 e- C9 P, k7 O) N1 H
2 [: G8 v  ~! V+ ~! v
二、化学处理与表面清洁
9 ~& O1 w. A9 Z& b
. x, \2 C$ p9 p1. ****强氧化处理0 d% o, ]9 L7 _! K
1 f" ?7 Q* r% l# H, Q
- 原理:利用****(KMnO₄)的强氧化性,氧化孔内残留金属钯(Pd)下方的环氧树脂,使其脱落。: k/ y3 B' D' f* S
- 工艺参数:
) e; i9 D! h: O6 i2 |& X6 }! O- ****槽:Mn⁷⁺浓度50-70g/L,温度80±5℃,处理时间5-15分钟。
0 \5 T+ H$ ^' x1 E1 G- 中和槽:中和剂浓度70-110%,温度35-45℃,处理时间2-10分钟,确保高价锰完全中和。
% @# s7 q: C7 }2 h( |1 V: d- 后处理:超声波水洗去除残留药液,烘干板面水汽。; R1 N7 ^4 h. q7 {& x: ?
2. 钝化剂辅助处理
3 x! J, u  j1 Q& w1 M4 P) \
0 A5 P* {$ f3 H- 使用含硫化合物钝化剂(如牛脲)抑制金属钯活性,减少化金时的催化反应,降低粘金风险。7 `* \! y7 s! r, U8 b% D

% k9 o% h& z" m" w" k三、物理防护与工艺控制- f! E% D2 o& ]4 d
! H0 p2 M' l# }5 T
1. 治具拦截法
# }* y8 l- K% Z' C6 x* ~  U4 m' m( U$ `' x! d0 ~5 f
- 设计专用治具(如纤维板+支撑柱结构),在化金过程中物理阻挡金液进入孔内,避免粘金。7 J! Y! N, g7 K( X4 L
2. 严格质量**0 Q( x' a  j+ i/ t
" G, B* ]; q* e8 Q
- 孔壁粗糙度检测:通过切片分析确保孔壁粗糙度<1mil(0.0254mm)。
5 E( B( r! h  ^- 残铜检测:蚀刻后使用AOI或人工目检,确认孔内无残铜残留。- U, `3 x, Q% v, o7 q
1 y# h' h4 |  ~$ p8 h" C0 ]0 f
四、其他注意事项
6 W; l7 k4 `# j; E
& \: c' _- B9 X2 v' N8 ^! O1. 基材选择:优先选用粗糙度较低的基材(如联茂、合正),减少孔壁缺陷。
1 [% R. x+ O3 t) ^# M2. 叠层优化:测试不同叠层(1-**nl/叠)对孔粗的影响,选择最佳叠层方案。* m% o) l) S' W, ~9 _7 x$ j9 e
3. 钻针寿命管理:定期更换磨次较高的钻针(如4.6mm针径超过M7次后停用),避免因钻针磨损导致孔壁质量下降。
/ K. H+ @4 g  c" k* e; t' X; h/ b& W8 ^7 u' p2 ?9 @/ F
总结:通过钻孔参数优化、化学处理(****+钝化剂)、物理防护及严格质检,可显著改善NPTH大孔孔内残铜粘金问题。建议结合具体生产条件进行工艺验证,确保方案有效性。
4 C, D* E  p3 w) J' z3 g& t5 d/ Q) k* I& B7 c; R! M/ n, p
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